姓名:康文兵
性别:男
国家特聘教授
博士生导师
出生日期:1963年3月
电子邮箱:wbkang@sdu.edu.cn
电话:0531-88363394
【个人简介】
山东大学国家胶体材料工程技术中心教授,博士生导师,是国家教委公派第3期1984年赴日本名古屋工业大学学习并得到物质工学博士学位,并先后在日本川村理化学研究所、日本Ciba-Geigy公司和日本安智电子材料公司(AZ公司,原为德国赫斯特公司,后成为科莱恩、安智电子,2014年合并到德国默克公司)中任职。特别是在AZ公司的20多年中,先后担任该公司多项课题主管、研发部长、全球产品总监、质量保证部长、市场部长。主要从事于OLED,芯片及显示器制造用光刻胶,抗反射膜材料,光刻胶形貌处理材料,聚硅氮烷等涂膜型绝缘材料的研发及工业化,直接或主导开发的产品大多数在因特尔,三星,SK海力士,东芝,美光,台湾积体电路,中芯国际等全球大型客户高端制程中使用。
【教育、工作经历】
(1) 2018-09至 今,山东大学,国家胶体材料工程技术研究中心,教授
(2) 2013-09至2018-08,徐州大晶新材料科技集团有限公司,总部,其他正高级职称
(3) 1993-04至2013-08,日本安智电子材料(现为默克公司,科莱蒽/赫斯特),研发部长,质保部长,其他正高级职称
(4) 1992-04至1993-03,日本Ciba-Geigy,国际科学研究所,研究员
(5) 1990-04至1992-03,大日本油墨,川村理化学研究所,研究员
(6) 1987-04至1990-03,名古屋工业大学,物质工学,博士
(7) 1985-04至1987-03,名古屋工业大学,物质工学,硕士
(8) 1979-09至1983-07,华东理工大学,精细化工,学士
【研究领域】
研究方向为光刻胶及涂膜型材料的机理及应用技术方面的研究。包含材料之间的纳米级相互作用机理解析及应用,涂膜型功能材料的研究及应用,感光材料的研发及应用,含硅、含氟材料在集成电路制造中的应用研究,248nm和193nm光刻材料改进研究,EUV及电子束光刻胶关键材料的研究等。
【近五年主持或参加的光刻胶科研项目/课题】
(1)济宁市九德半导体科技有限公司,企事业单位委托项目,2320024002,电子材料合成及分析条件优化,2024-4至2027-4,50万元,在研。
(2)宁波微芯新材料科技有限公司,企事业单位委托项目,2320024001,应用于EUV光刻领域的光刻胶原材料开发,2024-1至2026-12,50万元,在研。
(3)福建泓光半导体材料有限公司,企事业单位委托项目,2320020003,光刻胶及周边材料质量检测及提升方法技术合作, 2020-10至2023-10, 100万元,结题。
(4)山东省科学技术厅,重大科技创新工程, 2019JZZY020229,高品质光刻胶及光刻工艺研究, 2019-01至2021-12, 350万元,结题。
【相关学术论文】
[1] Junying Zhang, Ruochen Li, Haihua Wang,Wenbing Kang*, Xing-Dong Xu*. Photo-induced tunable luminescence from an aggregated amphiphilic ethylene-pyrene derivative in aqueous media.Chinese Chem. Lett.2024, 35(6), 109216.
[2] Zicheng Tang, Xubin Guo, Haihua Wang, Huan Chen andWenbing Kang*. New metallization method of modified tannic acid photoresist pattern.Industrial Chemistry & Materials.2024, 2(2), 284-288.
[3]Junying Zhang, Hui-Wei Feng, Huan Chen,Wenbing Kang*, Xing-Dong Xu*.Highly selective and sensitive detection of hyaluronic acid based on a pyrene-cored cationic aggregation-induced emission luminogen.Microchem. J.2024, 200, 110395.
[4]Junjun Liu, Dong Wang, Yitan Li, Haihua Wang, Huan Chen,Qianqian Wang*,Wenbing Kang*. Exceptional lithography sensitivity boosted by hexafluoroisopropanols in photoresists.Polymers.2024, 16, 6, 825.
[5] Yana Guo, Shenshen Li, Haihua Wang, Yu Chen, Huan Chen, Dong Wang,Qianqian Wang*,Wenbing Kang*. High patterning photosensitivity by a novel fluorinated copolymer formulated resist.Eur. Polym. J.2024, 211, 113009.
[6] Xubin Guo, Huan Chen, Haihua Wang, Dong Wang,Qianqian Wang*,Wenbing Kang*. Controlled in-situ reduction strategy for synthesis of transparent conductive metal meshes using tannic acid-based photoresists.Microelectron. Eng.2024, 290, 112196.
[7] Shenshen Li†, Jiaqi Li†, Huan Chen, Haihua Wang*,Qianqian Wang*, andWenbing Kang*. Graphite nitride carbon (gC3N4) and borates as near-UV heterogeneous photoinitiators for acrylate photopolymerization.ACS Appl. Polym. Mater.2024, 6, 8721−8726.
[8] Yu Chen, Jiaqi Li, Liping Zhao, Huan Chen, Xia Xin*, Haihua Wang, Shenshen Li,WenbingKang*. Self-assembly behavior of fluorinated amphiphilic copolymer in aqueous solution and itsproperties in the solid film state,J. Mol. Liq.2023, 387, 122655.
[9] Junjun Liu;Wenbing Kang*; New chemically amplified positive photoresist with phenolic resin modified by GMA and BOC protection,Polymers,2023, 15, 1598-1598.
[10] Junying Zhang,Wenbing Kang*,Xing-Dong Xu*. Tetraphenylethene-based macrocycles with dual-ring topology:synthesis, structures, and applications.Org. Chem. Front.2023, 10(24),6225.
[11] Zhiwei Liang, Xiaojia Zhuang, Zicheng Tang, Quanhua Deng, Haiping Li*,Wenbing Kang*. High-crystalline polymeric carbon nitride flake composed porous nanotubes with significantlyimproved photocatalytic water splitting activity: The optimal balance between crystallinity and surface area,Chem. Eng. J.2022, 432, 134388.
[12] Zhiwei Liang, Lei Liu,* Xiaojia Zhuang, Zicheng Tang, Haiping Li*,Wenbing Kang*. Polyhedral oligomeric silsesquioxane as a recyclable soft template to synthesize mesoporous polymeric carbon nitride with enhanced photocatalytic hydrogen evolution,Sustainable Energy Fuels,2021,5,112-116.
[13] Zhiwei Liang, Xiaojia Zhuang, Zicheng Tang, Haiping Li, Lei Liu,Wenbing Kang*. Softtemplate induced synthesis of high-crystalline polymeric carbon nitride with boostedphotocatalytic performance,J. Mater. Chem. A,2021, 9, 6805-6810.
【发明专利】
(1)康文兵;梁之威;刘雷,一种以笼型聚倍半硅氧烷为模板制备的氮化碳材料及其制备方法与应用,2024-06-24,中国,ZL 202010041140.9
(2)庄晓佳;康文兵;一种多彩色电致变色复合薄膜及其制备方法与应用,2022-08-16,中国,ZL 202111414112.8
(3)汤紫成;康文兵;陈欢;赵莉苹,一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用,2024-08-02,中国,ZL 202111418612.9
(4)康文兵;李嘉琪;王海花;陈欢;赵莉苹;陈钰,一种聚合氮化碳和有机硼酸盐光引发剂体系及其在引发自由基聚合反应中的应用,2024-02-13,中国,ZL 202210988186.0
(5)康文兵;刘俊俊,一种含丙烯酸酯侧链的光刻胶材料及其制备方法与应用,2024-01-05,中国,ZL 202211569972.3
(6)康文兵;孔慧停,陈欢,王海花,闫正,一种化学机械抛光用硅溶胶及其制备方法与应用,2023-02-13,ZL 202310106131.7
(7)康文兵;闫正,王海花,陈欢,孔慧停,一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料及其制备方法与在光刻中的应用,2023-01-10,中国,202310032482.8
(8)康文兵;楚遵星;王倩倩;王海花;陈欢;一种银网格透明电极及其制备方法,2024-01-18,202410074502.2
(9)康文兵;郭旭彬;王海花;陈欢;王倩倩;一种基于邻苯三酚衍生物的负性光刻胶及其制备方法与在制备透明导电薄膜中的应用,2024-01-19,202410083939.2