一、设备名称：反应离子刻蚀机

型号：RIE-1C

技术参数：刻蚀均匀度：±5%；真空反应室为石英玻璃；载片盘满足4英寸样品实验；射频电源13.56MHz，200W，全固态，晶体控制；射频测量为数字式，可读出正向和反射功率。CF₄和O₂两路质量流量（MFM）表控制气路，N₂为保护气体；皮拉尼真空计；自动控制系统。

二、服务项目

包括表面刻蚀、去除纳米级残留物、改变表面的亲水性或疏水性，失效分析等，操作过程简单方便，刻蚀的精度和灵敏度都较高。

三、联系方式

电话：88362322

仪器放置地点：老数学楼126房间

收费标准：根据实际情况收费